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10.15913/j.cnki.kjycx.2015.11.071

氢等离子体原子、分子过程研究

引用
在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中,氢气作为镀膜工艺中重要的参与气体,对镀膜工艺有直接的影响。在微波放电等离子体发生装置中激发氢等离子体,使用高分辨率的多道光谱分析仪实时采集 Hα谱线,对谱线的线型分布进行微分,得出谱线的能量分布,进一步分析氢原子在等离子体中经历的分子过程。结果显示,氢原子的能量分布有3个明显的能量峰,分别在0.3 eV处、2.5 eV处和3 eV处。其中,0.3 eV处的峰比较强,表明在微波放电等离子体条件下,氢原子发生的分子过程主要是离解激发。

氢等离子体、离解激发、线型分析、分子过程

O561.4(分子物理学、原子物理学)

2015-06-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

71-71,72

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