10.3969/j.issn.1008-0570.2007.12.109
SUPREM-Ⅲ进行集成电路氧化一扩散工艺模拟
随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟.并对模拟结果进行分析比较.从而对氧化、扩散工艺操作过程有直观的了解,避免了复杂的工程计算.
SUPREM-Ⅲ、氧化扩散、工艺模拟
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TN405(微电子学、集成电路(IC))
辽宁省教育厅资助项目20040291
2007-06-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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