双玻璃晒架曝光机的总体设计与实现
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1008-0570.2006.19.025

双玻璃晒架曝光机的总体设计与实现

引用
紫外线曝光机是PCB图形转移中的重要设备.传统的迈拉晒架虽然简便,但存在着需要赶气、效率低、不能实现精确对位的缺点.而双玻璃晒架与传统的迈拉晒架相比不仅具有不需要赶气、效率高的优点,还可以实现手动或自动高精度对位.在结合中国市场的实际需求后,拟定了双玻璃晒架实施方案,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题.在大量的实验基础上有效的解决了真空和重复精度两个关键技术问题.双玻璃晒架的成功研制还为实现手动、半自动以及全自动对位的紫外线曝光机系统奠定了基础.

紫外线曝光机、印制电路板、双玻璃晒架

22

TP2(自动化技术及设备)

国防科技应用基础研究基金

2006-09-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

70-72,183

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

微计算机信息

1008-0570

14-1128/TP

22

2006,22(19)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn