10.3969/j.issn.1008-0570.2006.19.025
双玻璃晒架曝光机的总体设计与实现
紫外线曝光机是PCB图形转移中的重要设备.传统的迈拉晒架虽然简便,但存在着需要赶气、效率低、不能实现精确对位的缺点.而双玻璃晒架与传统的迈拉晒架相比不仅具有不需要赶气、效率高的优点,还可以实现手动或自动高精度对位.在结合中国市场的实际需求后,拟定了双玻璃晒架实施方案,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题.在大量的实验基础上有效的解决了真空和重复精度两个关键技术问题.双玻璃晒架的成功研制还为实现手动、半自动以及全自动对位的紫外线曝光机系统奠定了基础.
紫外线曝光机、印制电路板、双玻璃晒架
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TP2(自动化技术及设备)
国防科技应用基础研究基金
2006-09-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
70-72,183