等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜的研究

摘要：

讨论了在不同基板温度下用等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)分析仪、反射式高能电子衍射(RHEED)仪及X射线光电子能谱(XPS)分析ZnO薄膜的特征.分析结果显示,在基板温度为300 ℃,二乙基锌(DEZ)流量为50 mL/min条件下可得到优取向高晶化的ZnO薄膜.光学性能分析表明,ZnO薄膜是透明的,在可视区峰值透光率高达85%.

关键词：ZnO、等离子体、化学气相沉积(CVD)

所属期刊栏目：31

分类号：TQ56;TQ560

资助基金：国家自然科学基金项目E060408

在线出版日期：2008-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：418-420