射频溅射法制备掺铂TiO2薄膜的基本性质

摘要：

用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外-可见(UV-vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长; TiO2薄膜在紫外的吸收边发生红移,其光谱响应范围得到了提高;铂氧化物的分解,促使薄膜表面出现了分散分布的微米尺寸岛状突出物,同时导致单质铂在薄膜表面发生富集.

关键词：二氧化钛、铂、表面形貌、富积

所属期刊栏目：50

分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金59871033

在线出版日期：2004-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：51-54