统计过程控制在光刻工序中的应用

摘要：

简要介绍了微电子元器件制造过程工艺流程涉及的关键工序,重点介绍了光刻技术的基本原理,通过分析确定了光刻工艺中的关键工序为涂胶工艺,进而确定了关键工艺参数——光刻胶厚度.简要介绍了IC元器件生产过程统计质量控制和评价流程,以及统计过程分析理论.列举了IC元器件制造生产线光刻胶厚度短期和长期统计的数据结果,通过数据统计分析,综合评价了关键工序的能力.通过监控结果发现并及时解决生产线实际问题,较好的验证了过程统计在IC元器件制造过程中的应用验证和控制效果,提升了生产线的管理水平,确保了产品质量控制的要求.

关键词：微电子元器件制造、光刻、统计过程控制、光刻胶厚度

所属期刊栏目：41

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2020-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：33-36