双极 IC 接触电阻改善研究

摘要：

给出了一种解决双极集成电路在生产中欧姆接触偏大的问题，特别是双极集成电路P型接触偏大的问题解决方法。针对双极集成电路在批量生产过程中 P 型欧姆接触偏大的现象作了分析，并根据所积累的专业经验，在生产工艺过程中安排了过腐蚀、soft －etch，混酸腐蚀硅等专项实验，找到问题的原因和解决方法。通过长时间以及大批量生产实践的检验，这种方法对改善双极集成电路中 P 型接触电阻非常有效，因此对提高双极集成电路的工艺控制稳定性具有重要意义。

关键词：双极集成电路、欧姆接触、硅刻蚀、湿法腐蚀、工艺控制

分类号：TN431(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2015-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

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