乳胶源硼扩散的SENTAURUS模拟

摘要：

利用半导体TCAD工具Sentaurus对硅片的乳胶源掺硼扩散工艺进行模拟，用淀积后的退火处理过程替代注入后退火的模拟方案，以多种实测条件为标准，用两种条件进行模拟，并结合实测数据，对模型结果进行比较，找到模拟的最终可行方案，弥补Sentaurus软件功能模块上的不足。

关键词：乳胶源硼扩散、SENTAURUS模拟、半导体TCAD、Sentaurus Process模块

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2014-11-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：16-17