10.3969/j.issn.1002-2279.2014.05.003
4700 S电子束曝光机图形曝光模式及其应用
通过对MEBES 4700S电子束曝光机不同图形曝光模式特性的比较和分析,得到其在160MHz和320MHz曝光像素频率和不同设计栅格尺寸下的适用范围,以利用MEBES 4700S 生产具有期望精度值图形的掩模版,达到最佳的制版效果。
MEBES 4700S、电子束曝光机、图形曝光模式
TN305.6(半导体技术)
2014-11-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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8-10,13