中束流离子注入机工艺实现原理

摘要：

粒子高速冲击其他材料并进入其中叫作离子注入.在半导体工业中,这个过程用来向纯净衬底上掺杂杂质而形成半导体.半导体工艺中这个特别的步骤是由一种特殊的粒子加速装置完成,这就是离子注入机.

关键词：离子注入、高压、真空、半导体

所属期刊栏目：34

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2013-07-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：12-13,16