10.3969/j.issn.1002-2279.2012.04.008
半导体硅片清洗设备研究进展
阐述了半导体硅片清洗的一些重要设备.主要包括湿法化学清洗、兆声波清洗以及机械刷洗设备等常用的设备及配置,同时也介绍了近几年逐渐获得应用的清洗设备方面的技术创新.
半导体、硅片、清洗、兆声波、设备
33
TN305.97(半导体技术)
2012-11-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
25-27,36
点击收藏,不怕下次找不到~
10.3969/j.issn.1002-2279.2012.04.008
半导体、硅片、清洗、兆声波、设备
33
TN305.97(半导体技术)
2012-11-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
25-27,36
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn