AlCu合金的反应离子刻蚀工艺研究

摘要：

AlCu合金的反应离子刻蚀具有其工艺特殊性,如Cu的去除、侧壁的保护、后腐蚀的抑制等.采用BCl3、Cl2、N2和CH4刻蚀AlCu合金,获得了优化的工艺参数,分析了CH4的侧壁保护作用,重点研究了刻蚀残留物的去除.

关键词：AlCu合金、反应离子刻蚀、侧壁保护、残留物

所属期刊栏目：31

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2011-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：18-20