金属连线光刻技术

摘要：

介绍了一种细线条金属连线光刻技术.在溅射铝后,生长一薄层氮化硅薄膜作为减反层,利用氮化硅薄膜的光刻条件,涂覆薄胶可以保证刻出细线条,腐蚀薄层氮化硅保证线宽,同时在腐蚀铝过程中用氮化硅作掩蔽解决了薄胶问题.并在亚微米的抗辐射加固电路中成功应用.

关键词：线宽、薄胶、减反层

所属期刊栏目：28

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2007-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：14-15,19