10.3969/j.issn.1002-2279.2005.01.003
MCM多层金属化及刻蚀技术研究
本文介绍了MCM芯片制造过程,MCM的关键工艺技术,重点介绍了MCM多层金属化及其湿式刻蚀技术.
凸点、回流、多层金属化、刻蚀、UBM
26
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2005-04-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
7-8
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10.3969/j.issn.1002-2279.2005.01.003
凸点、回流、多层金属化、刻蚀、UBM
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TN4(微电子学、集成电路(IC))
2005-04-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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