MCM多层金属化及刻蚀技术研究
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10.3969/j.issn.1002-2279.2005.01.003

MCM多层金属化及刻蚀技术研究

引用
本文介绍了MCM芯片制造过程,MCM的关键工艺技术,重点介绍了MCM多层金属化及其湿式刻蚀技术.

凸点、回流、多层金属化、刻蚀、UBM

26

TN4(微电子学、集成电路(IC))

2005-04-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

7-8

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微处理机

1002-2279

21-1216/TP

26

2005,26(1)

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