双层金属化工艺中绝缘介质的SEM研究

摘要：

本文介绍了扫描电子显微镜(SEM)的器件剖面分析技术,并对双层金属化工艺中的技术难点进行了分析和研究.

关键词：双层金属化、SEM、解理、缀饰

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：10-11