925银基底镀覆Ti/DLC薄膜工艺试验

摘要：

针对925银传统着黑色工艺存在的缺点,采用溅射镀膜与阳极层离子源相结合的镀膜工艺,在925银基底上镀覆Ti/DLC膜,检测了不同工艺参数下膜层的性能.结果表明,通过调整负偏压、工作气体分压及镀膜时间等工艺参数,可以使Ti/DLC膜层获得较纯正、有光泽的暗黑色,并可调节其显微硬度及临界划痕载荷;当负偏压为-120 V、Ar气分压为0.40 Pa、时间为10 min时在925银基底上溅射Ti膜,以及负偏压为-180 V,乙炔分压在0.25～0.30 Pa、时间为40～45min在Ti膜上沉积DLC膜时,Ti/DLC膜层的外观装饰效果、耐蚀性和力学性能等较好.

关键词：925银、溅射镀膜、阳极层离子源、DLC膜、工艺参数

所属期刊栏目：36

分类号：TG146.3(金属学与热处理)

资助基金：广东高校珠宝首饰工程技术开发中心建设资助项目粤教科函[2012]131号

在线出版日期：2016-06-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：463-466