电刷镀纳米Cu在500 ℃下的抗氧化性研究

摘要：

针对电刷镀方法合成的纳米Cu,采用热天平、带有能谱仪的扫描电子显微镜、场发射扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了其在500 ℃下,压力为0.1 MPa 纯O2中的氧化行为,结果表明,所研究的纳米Cu的抗氧化能力明显弱于工业纯Cu.

关键词：纳米铜、抗氧化性、晶界、扩散

所属期刊栏目：30

分类号：TG172.82(金属学与热处理)

在线出版日期：2011-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1093-1096