硅酸盐溶液中ZL101等离子体电解氧化膜形成过程的研究
以硅酸盐溶液为电解液,对ZL101合金进行等离子体电解氧化(PEO)处理,分析膜层的形成过程和膜层的组成和结构.结果表明,PEO初始阶段的膜层分别在初生α相和共晶体上独立形成,Si相上无等离子体放电产生,Si在临近α相的等离子体放电产生高温下氧化,形成SiO2进入膜层.初生α相的膜层以Al2O3为主,含有少量的SiO2.而共晶体的膜层中SiO2含量显著高于Al2O3.ZL101的PEO膜主要成分为γ-Al2O3、α-Al2O3,SiO2及莫来石(3Al2O3·2SiO2).随着PEO处理时间的增加,γ-Al2O3逐渐向α-Al2O3转化,膜层中α-Al2O3量增加.
等离子体电解氧化、ZL101合金、相组成、形成过程
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TG146.2(金属学与热处理)
2007-10-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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