PECVD 颜色均匀性的研究

摘要：

根据多晶硅 PECVD 的制程原理，分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响，寻求最佳参数，从而达到优化工艺，改善镀膜颜色质量，保证颜色均匀性的目的。

关键词：氮化硅减反射膜、工艺参数、均匀性

分类号：TM914.4;TN305.2

在线出版日期：2015-07-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：60-61