10.3969/j.issn.1009-3664.2015.03.020
PECVD 颜色均匀性的研究
根据多晶硅 PECVD 的制程原理,分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响,寻求最佳参数,从而达到优化工艺,改善镀膜颜色质量,保证颜色均匀性的目的。
氮化硅减反射膜、工艺参数、均匀性
TM914.4;TN305.2
2015-07-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
60-61
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10.3969/j.issn.1009-3664.2015.03.020
氮化硅减反射膜、工艺参数、均匀性
TM914.4;TN305.2
2015-07-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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