W掺杂对磁控溅射VO2薄膜结构和光学性能的影响

摘要：

为提高VO2薄膜的性能尤其是降低其相变温度,文章采用射频磁控溅射法在VO2薄膜中掺杂不同浓度的金属W.利用X射线光电子能谱仪、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、UV-3600分光光度计和相变测试系统对样品进行了表征.结果表明:掺杂W能够有效地降低VO2薄膜相变温度,但同时也降低了光的透过率.

关键词：VO2薄膜、W掺杂、磁控溅射、光学性能、建筑节能、外窗、玻璃幕墙、镀膜

所属期刊栏目：27

分类号：TQ171

在线出版日期：2017-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：49-51