氯霉素印迹聚合物膜的制备及其吸附性能研究

摘要：

利用分子印迹技术紫外光引发原位聚合的方法,以氯霉素为模板分子,以4-乙烯基吡啶为功能单体,以聚丙烯无纺布微孔滤膜为支撑膜,制备了具有选择识别性的氯霉素印迹聚合物膜；采用紫外光谱分析研究了模板分子和功能单体之间的作用,使用扫描电镜观察了线性聚合物添加剂PEG用量对膜的表面形貌的影响,并对印迹聚合物膜进行了平衡吸附和特异性吸附实验,研究其识别能力.结果表明:氯霉素和4-乙烯基吡啶之间形成了氢键；PEG质量分数为16％时膜表面形态最佳,孔结构清晰均匀；本实验所合成的印迹膜对氯霉素分子表现出了良好的特异性识别能力,吸附量达到22.83μmol/g.

关键词：氯霉素、表面形貌、吸附性能、分子印迹聚合物膜

所属期刊栏目：31

分类号：TS102.528.3(纺织工业、染整工业)

资助基金：天津市自然科学基金重点项目10JCZDJC21900

在线出版日期：2012-09-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：10-14