残留溶剂对聚酰亚胺气体分离膜性能的影响

摘要：

以3,3′,4,4 ′-二苯甲酮四酸二酐(BTDA)和2,4,6-三甲基-1,3-苯二胺(TMMPD)为单体,以N-甲基吡咯烷酮(NMP)为溶剂,通过低温缩聚-化学亚胺化法合成酮酐型聚酰亚胺(PI( BTDA-TMMPD))；在303～423 K温度下对制备的聚酰亚胺均质膜进行真空后处理,考察溶剂残留量变化及其对膜气体透过性能和分离性能影响.结果表明:经303～373 K真空热处理后,均质膜失重约占全部处理过程中总失重的80％.在373～423 K真空处理过程中,聚酰亚胺膜残留溶剂量变化趋于平稳；当溶剂残留率为1.74％时,膜对H2气体透过系数及H2/N2、O2/N2的理想分离系数达到最大值；当溶剂残留率为0.95％时,膜对H2、N2、O2及CH4的透过性能均下降,而CO2透过系数及CO2/CH4、CO2/N2理想分离系数出现极大值.

关键词：聚酰亚胺膜、热处理、残留溶剂、气体分离性能

所属期刊栏目：30

分类号：TS102.54;TQ028.8(纺织工业、染整工业)

资助基金：教育部创新团队"重质油高效转化的绿色化学与工程"项目IRT0759

在线出版日期：2012-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：5-7