聚焦离子束加工微锥形结构的制造误差分析
聚焦离子束(FIB)纳米制造技术已经成为微纳米尺度功能器件加工的一种重要方法,利用聚焦离子束直写加工可实现复杂二维微纳结构的高精度制造.然而由于离子溅射产额随入射角度非线性变化规律、再沉积现象及离子束能量分布特性的综合影响,FIB 在三维结构加工中会存在复杂形貌误差.针对 FIB 加工凹面中存在的典型平底现象这一形貌误差进行了分析和实验研究,通过仿真分析和 FIB 加工直径 4,μm 锥形凹坑结构的实验验证,阐明了聚焦离子束高斯能量分布特性与溅射产额规律耦合是产生平底现象的主要原因,为 FIB 三维结构加工的误差的修正提供了重要的基础和依据.
聚焦离子束、微纳制造、直写加工、三维结构加工、高斯分布、溅射产额
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TH161
国家重点基础研究发展计划973计划资助项目2011CB706700;国家自然科学基金资助项目51275559
2015-10-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
827-833