电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响

摘要：

采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO2-Ta2 O5电极.与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO2-Ta2 O5电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布.强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20 d,比喷砂处理后制备的电极寿命(16 d)显著提高20%;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1.62~1.73 V,明显低于喷砂后制备的钛电极(1.92 V),电解时可降低电耗.

关键词：钛基IrO2-Ta2O5电极、电化学刻蚀、表面预处理、强化寿命、析氧电位

所属期刊栏目：34

分类号：TG146.2+3(金属学与热处理)

资助基金：陕西省科技厅科技攻关项目2016GY-223

在线出版日期：2017-07-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：37-39