高纯钛的生产技术

摘要：

@@ 高纯钛在半导体超大规模集成电路中以钛硅化合物(TiSix),氮化钛(TiN)、钨钛(W-Ti)等形式用做控制电极,扩散阻挡层,配线等材料,这些都是以薄膜形式使用的.薄膜主要是用溅射方法制备,所以高纯钛是作为溅射靶材使用.在纯度要求上,必须充分除去Na,K等碱性金属,U,Th等放射性元素,Fe,Cr,Ni等重金属元素.另外,随着半导体的微型化,还开发了被称为离于金属等离子的技术,其溅射设备腔体内的各种部件也开始采用与溅射靶同样材质的高纯钛.在生物材料方面,高纯钛丝可用作捆扎材料.

机标关键词：纯钛、溅射靶材、超大规模集成电路、重金属元素、生物材料、半导体、扩散阻挡层、金属等离子、放射性元素、控制电极、溅射设备、硅化合物、纯度要求、薄膜、微型化、氮化钛、体内、钛丝、配线、捆扎

分类号：TQ17

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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