中频反应溅射TiO2膜层的性能

摘要：

@@ TiO2是一种应用广泛的高折射率膜层,在可见光范围内是透明的,具有良好的机械性能和化学稳定性.它的存在形式有非晶态和三种晶体结构形态(金红石、锐钛矿和板钛矿).金红石结构最稳定,折射率和硬度最高.真空蒸镀是制备小规格TiO2膜层最好的沉积方法,如透镜或眼镜片的抗反射膜.磁控管溅射可以保证宽度近4 m膜层的均匀性,已经成为大规格膜层的主要制备方法,但是这种方法沉积率非常低,难以实用.采用双磁控管技术配合以40 kHz的中频电源,可使TiO2膜层的沉积速率大幅度提高.

机标关键词：中频反应溅射、膜层、高折射率、金红石结构、制备方法、磁控管溅射、化学稳定性、中频电源、真空蒸镀、抗反射膜、结构形态、技术配合、机械性能、存在形式、沉积速率、沉积方法、最稳定、眼镜片、小规格、锐钛矿

分类号：TQ2(基本有机化学工业)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：32-33