电离辐射对淋巴细胞DNA合成的影响及适应性反应

摘要：

目的:探讨淋巴细胞预先接受低剂量电离辐射后,对大剂量照射的适应性反应.方法:用0.048Gy γ-射线照射后接受0.5～8.0Gy攻击剂量照射,以3H-TdR掺入法观察淋巴细胞DNA合成能力的变化.结果:淋巴细胞接受低剂量照射时能提高被大剂量照射的DNA合成能力,4.0Gy的照射时适应性反应最充分.结论:低剂量辐射能诱导淋巴细胞对大剂量辐射的适应性反应.

关键词：电离辐射、淋巴细胞、DNA合成

所属期刊栏目：19

分类号：R811.5(放射医学)

资助基金：核工业总公司资助项目6920062-17

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1148-1149