以阴离子表面活性剂为模板的二氧化硅介孔材料(AMS)

摘要：

以阴离子表面活性剂为模板剂的二氧化硅介孔材料(AMS)是通过引入带胺基或季铵盐的碱性硅烷助结构导向剂(CSDA)来合成的.笔者采用该合成路线合成出了各种不同的介观结构(AMS-1～10),包括三维六方、四方、立方、二维六方、双连续立方以及层状相等.另外,采用手性阴离子表面活性剂作为模板剂首次合成出具有二维六方晶系结构排列、不同曲率、有序螺旋状孔道绕着六角柱的中心旋转的氧化硅介孔材料.在最近的研究工作中发现,这种螺旋的孔道及形貌可以通过合成过程中的搅拌速率来控制.通过萃取,可以得到氨基或季铵盐表面修饰的具有不同结构的介孔材料.最后,根据动力学和热力学理论论述了AMS介孔材料的合成机理.

关键词：介孔材料、阴离子表面活性剂、手性、介观结构、助结构导向剂

所属期刊栏目：22

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2006-11-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：22-32