JGP-560B磁控溅射仪基片台的改进

摘要：

针对JGP-560B型磁控溅射仪存在基片台可放置基片的数量及尺寸有限、同批不同样品成分的一致性难以保证等问题,将设备的基片挡板转盘改进成了一次可放置较多数量基片,并能实现连续旋转的新基片台.结果表明:通过优化可编程控制器端口的接线,既保留了JGP-560B磁控溅射仪的原设计功能,又实现了挡板转盘的软件可控连续旋转,且可通过LED灯指示挡板转盘的旋转状态;在挡板转盘上,根据靶离子的有效溅射范围设计的5个基片位,满足了一次最多可放置20片载玻片基片的实验需求.该技术改进有效满足了多基片一次性沉积均一多元薄膜的实验要求,为JGP-560B磁控溅射仪基片台的技术改进提供了改进思路和有效方案.

关键词：磁控溅射、多靶共溅、基片台、基片挡板转盘、可编程控制器

所属期刊栏目：32

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家科技支撑计划项目2012BAJ20B03

在线出版日期：2014-03-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：72-74