缓冲层对AZO薄膜光电性能的影响

摘要：

该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量.重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,并指出目前AZO薄膜发展瓶颈,展望了其未来发展趋势.

关键词：AZO薄膜、外延技术、缓冲层

所属期刊栏目：14

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：吉首大学2014年大学生研究性学习与创新性实验计划项目72;吉首大学校级科研项目14JD031

在线出版日期：2016-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：36-40