上颌第一磨牙与第二前磨牙牙根间微种植体支抗用于上颌磨牙远移的CBCT研究

摘要：

目的:评估微种植体支抗(MIA)以不同位点、角度植入上颌第一磨牙(M1)与第二前磨牙(P2)牙根之间用于磨牙远移时,其稳定性和可行性.方法:筛选30例CBCT资料,预设MIA尖端直径1.2 mm,植入骨内长度6 mm.植入高度为釉牙骨质界CEJ以上4 mm和6 mm,角度与P2长轴呈20°、40°和60°,记录将MIA植入后尖端所在平面P2根外侧壁至皮质骨外侧壁的距离CRD、M1-P2牙根间距离RRD以及植入位点皮质骨厚度ICD.所得数据采用SPSS 25.0软件分析.结果:将MIA与P2长轴呈40°、60°植入时,不能保证磨牙远移绝对可行.将MIA与P2长轴呈40°,距离CEJ 6 mm植入时更有利于磨牙远移,该位点ICD更有利于MIA稳定.结论:上颌磨牙远移时,建议将MIA植入上颌M1-P2牙根之间,距离CEJ 6 mm,与P2长轴呈40°.

关键词：CBCT;微种植体支抗;磨牙远移;釉牙骨质界

所属期刊栏目：37

分类号：R783.5(口腔科学)

在线出版日期：2021-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：666-670