三维有限元方法比较二种支抗形式关闭上颌拔牙间隙

摘要：

目的:建立关闭上颌第一前磨牙拔牙间隙的上颌骨三维有限元模型,比较2 种支抗形式在关闭上颌拔牙间隙时的区别,寻找一种安全可靠的加强支抗方法.方法:应用螺旋CT扫描、计算机图象处理和CAD技术,建立关闭上颌第一前磨牙拔牙间隙的上颌骨三维有限元模型.在此基础上分别建立腭部种植体加强磨牙支抗、横腭杆加强磨牙支抗的加载模型.对2 种不同的支抗形式进行有限元分析、比较.结果:腭部种植体支抗模型中的上颌第一恒磨牙的位移均明显小于横腭杆加强支抗模型(P＜0.01),有高度统计学意义.结论:腭部种植支抗能明显加强磨牙的支抗,这种作用优于横腭杆.

关键词：支抗、有限元法、种植体、横腭杆、位移

所属期刊栏目：21

分类号：R783.5(口腔科学)

在线出版日期：2005-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：47-49