超氧化物阴离子自由基对菌斑牙面氧化还原电位的影响

摘要：

目的:验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系.方法:①测试菌斑氧化还原电位.②利用SOD作为干扰因素观察氧化还原电位的变化.结果:菌斑电位低于非菌斑牙面电位,为负电位.菌斑加SOD后使菌斑电位升高.结论:菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关,自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素.

关键词：牙菌斑、氧化-还原电位、龋齿、超氧化物、阴离子、自由基、超氧化物歧化酶

所属期刊栏目：15

分类号：R78(口腔科学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：269-270