磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测

摘要：

磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段.探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术.最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术.

关键词：非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射、薄膜制备工艺、石化行业、应用

所属期刊栏目：33

分类号：TE9(石油机械设备与自动化)

资助基金：中国石油大学校科研和教改项目

在线出版日期：2005-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：73-76