10.3969/j.issn.1000-8144.2015.03.003
级孔HZSM-5分子筛上超临界正十二烷催化裂解
以四丙基氢氧化铵(TPAOH)和四丁基氢氧化铵为碱源,在十六烷基三甲基溴化铵存在下,通过脱硅和再晶化合成了级孔HZSM-5分子筛.采用XRD、TEM、N2吸附-脱附、原位Py-IR和NH3-TPD等方法表征了分子筛的结构和酸性,在500℃、4 MPa下考察了级孔HZSM-5分子筛涂层上超临界正十二烷催化裂解的性能.实验结果表明,用TPAOH脱硅得到的级孔HZSM-5分子筛具有较大的外比表面积、微孔体积及酸量,其活性较未处理的HZSM-5原粉提高了76%,失活速率下降了61%.再晶化后,试样表面被MCM-41和HZSM-5碎片包裹,活性反而下降.表明TPAOH可缓和脱硅过程,保护分子筛的微孔结构;开放的介孔结构和中等的强酸量,有利于改善级孔HZSM-5分子筛的催化裂解性能.
催化裂解、正十二烷、超临界、级孔H ZSM-5分子筛、脱硅、再晶化、碳氢燃料
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TQ517.2
国家自然科学基金项目21476168
2015-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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287-292