用像面全息二次曝光法测量温度场的研究

摘要：

提出了一种新的测量温度场的光学方法,即像面全息二次曝光法.利用该方法,测量并分析了轴对称温度场的分布情况.结果表明,该方法可以减小检测时反射波的影响.通过增强物光强度,可以提高干涉图样的对比度.同时在白光下可再现温度场的干涉条纹,从而得到不同输入功率下直线热源的干涉图样,实现了温度场的可视化.

关键词：像面全息、二次曝光法、温度场测量

所属期刊栏目：33

分类号：O438.1(光学)

在线出版日期：2005-10-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：40-42