磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究

摘要：

设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源;用CT-5型高斯计测量铝靶面上的磁场分布,给出靶电压和靶电流随溅射氩气压(3.0×10-1～9.0×10-1Pa)的变化曲线和3种不同气压(1.0,0.6,0.2 Pa)下的伏安特性曲线;在玻璃基体上制备了高纯铝、铜和钛膜.结果表明,该靶源可得到最佳磁场分布,且结构简单、更换靶材方便、溅射电压和气压低、成膜速度快、基体温升低.

关键词：磁控溅射、靶源、设计制作

所属期刊栏目：27

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：36-38