以甘氨酸为代表的氨基酸类化学添加剂在CMP工艺中的应用研究

摘要：

首先介绍了甘氨酸的基本性质,接着回顾了近年来国内外甘氨酸在集成电路多层布线及其它材料CMP中的不同应用,归纳总结表明甘氨酸在CMP过程中可以起到络合、缓蚀、控制电偶腐蚀、催化等多种作用,具有宽泛的应用领域,最后对氨基酸类的添加剂在CMP中的应用前景进行了展望.

关键词：甘氨酸、氨基酸、化学机械抛光、综述、应用

所属期刊栏目：50

分类号：TQ421.4;TN305.2

资助基金：国家02重大专项;天津市自然科学基金

在线出版日期：2021-09-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：2249-2253