四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1671-3206.2019.02.054

四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展

引用
介绍了四氟化硅气体中杂质的4种检测方法:气相色谱法、红外光谱法、气相色谱质谱法、原子发射光谱法.其中,气相色谱法一般用来测定四氟化硅气体中的烃类杂质,红外光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的氟硅烷、氟氧硅烷、氟硅醇杂质.气相色谱质谱法用来测定四氟化硅气体中的六氟化硫杂质,原子发射光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的金属杂质.然后对四氟化硅气体的不同净化方法进行列举,并对净化工艺的条件、优缺点进行了阐述.

四氟化硅、杂质检测、杂质净化

48

TQ170.1

贵州省科技计划项目黔科合SY字[2014]3058

2019-05-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

486-489,493

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

应用化工

1671-3206

61-1370/TQ

48

2019,48(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn