新型硅基抛光磨料的研究进展

摘要：

二氧化硅具有优异的抛光性能,是最重要的抛光磨料之一.然而随着新材料、新结构的出现,CMP磨料的需求出现多样化趋势,通过对纳米颗粒的物理化学性质进行微观设计达到满足不同材料抛光需求的目的成为新的研究方向.目前SiO2基体的新型磨料包括异形磨料、混合磨料和复合磨料.混合磨料、异形磨料已经取得一定进展;复合磨料尚处于发展阶段,是未来磨料研究的主要方向和趋势.就SiO2为基体的几种新型磨料的应用和抛光原理进行了简要说明.

关键词：二氧化硅、复合磨料、非球形、混合磨料、掺杂、化学机械抛光

所属期刊栏目：46

分类号：TQ383;TN305.2;TB34

资助基金：上海市优秀技术带头人项目14XD1425300

在线出版日期：2017-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1608-1612