仲烷基磺酸钠的合成及其在印染中的应用

摘要：

以C13～ C15正构烷烃为主要原料,在波长λ=350 nm紫外光照射下,激活位于碳链仲位置的—CH2基团同SO2发生磺化反应,再与O2、H2O发生氧化反应,制得仲烷基磺酸,经中和并除去未反应的正构烷烃,最终制得仲烷基磺酸钠.将仲烷基磺酸钠应用于印染工业中织物的前处理工艺,并测试了其处理后织物的毛效、白度、强力保留率等,各项指标均符合织物后续加工要求.

关键词：仲烷基磺酸钠、紫外线、印染、前处理、毛效

所属期刊栏目：42

分类号：TQ423.11

在线出版日期：2013-07-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：877-880