直流溅射ITO薄膜光电性能研究
采用直流溅射法制备了高性能的ITO薄膜.结果表明,氧气分压比和衬底温度对薄膜的方阻、可见光透射率具有重要的影响.其最佳值分别为0.5/50和350℃;同时,随着膜厚的增加,薄膜的晶粒增大,导电率也相应降低.
ITO薄膜、磁控溅射、氧分压、衬底温度、电阻率
42
TQ594
山西省青年科技研究基金2012021020-4
2013-05-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
634-636
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ITO薄膜、磁控溅射、氧分压、衬底温度、电阻率
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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