ZAO薄膜使用射频溅射法生长之参数的研究

摘要：

以氧化铝锌陶瓷为溅射靶材,在氩气环境下,使用射频溅射法在玻璃基片上制备氧化铝锌(ZAO)薄膜.通过调节气体压强、基片温度、溅射功率制膜,得到以C轴(002)为选择取向的氧化锌薄膜.由XRD、原子力显微镜(AFM)等对薄膜进行分析.结果表明,制备薄膜的最佳条件为:溅射压强0.4 Pa,溅射功率200 W,基片温度300℃.

关键词：ZAO陶瓷靶材、ZAO薄膜、RF溅射、XRD、原子力显微镜

所属期刊栏目：35

分类号：TB381;TB321(工程材料学)

资助基金：湖北省科技攻关项目2002AA105A02;湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队资助计划项目

在线出版日期：2007-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：910-912,917