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10.3969/j.issn.1005-6521.2013.11.011

高分子量裂褶多糖发酵培养工艺的正交优化

引用
优选高分子量裂褶多糖的最佳发酵条件工艺参数。对提高高分子量裂褶多糖质量分数的发酵条件分别进行了单因素和正交试验研究,以确定最佳实验条件。发酵培养条件的选择是,接种量为13%(体积分数);发酵最适温度在28℃~30℃之间;最佳初始pH为6~6.5;培养周期为120 h;适当加入0.2%Tween80表面活性剂,有助于提高SPG的产量。高分子量裂褶菌在优化的培养基和发酵培养条件下得到高分子量裂褶多糖的质量分数达1.9%。

裂褶多糖、分离纯化、发酵、正交试验

TS2;TQ4

2013-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

42-44,100

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1005-6521

12-1231/TS

2013,(11)

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