直流反应磁控溅射制备Zn1-xCdxO薄膜的结构和光学性能研究

摘要：

利用直流反应磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积了（002）方向高度择优生长的纤锌矿结构的Zn1-x Cdx O（x =0，0.2）合金薄膜.利用 XRD、XPS、TEM、PL 对薄膜的结构和光学性能进行了详细研究.结果表明，随着 x =0到 x =0.2，（002）衍射峰从34.36°偏移到33.38°，（002）方向的晶面间距从0.260 nm 增加到0.268 nm，Zn1-x Cdx O 薄膜的光学带隙也从3.20 eV 减小到2.70 eV，相应的近带边发光峰从393 nm 红移到467 nm.另外，我们还从能带结构观点对 Zn1-x Cdx O 薄膜的发光机理进行了研究.

关键词：磁控溅射、Zn1-x CdxO 薄膜、结构、光学性质

分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金项目11274135，11254001

在线出版日期：2014-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

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