Cu底层对FeCo/SiO2复合薄膜结构和磁性的影响

摘要：

利用磁控溅射在表面氧化的Si(001)基片上沉积Cu底层,采用溶胶一凝胶旋涂法并结合H2还原工艺在Cu底层上制备了FeCo/SiO2复合薄膜.利用X射线衍射仪和振动样品磁强计研究了Cu底层对复合薄膜结构和磁性的影响.结果表明,Cu底层对复合薄膜的(200)取向生长有明显影响,提高了薄膜的饱和磁化强度,降低了矫顽力,有利于复合薄膜软磁性能的提高.

关键词：FeCo/SiO2复合薄膜、磁控溅射、溶胶—凝胶旋涂、结构、磁性

所属期刊栏目：34

分类号：O482.5(固体物理学)

资助基金：吉林省青年基金科研项目20090144

在线出版日期：2013-06-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：48-50