联合1H-MRS及T2信号对精神分裂症前额叶皮质的研究

摘要：

目的 联合磁共振质子波谱(1H-MRS)及T2信号强度两种手段对首发精神分裂症患者前额叶皮质进行研究,探讨其变化规律及潜在联系.方法 收集34例首发未用药精神分裂症患者和健康对照35人.所有受试者分别行前额叶皮层的1H-MRS及快速自旋回波T2序列,分析精神分裂症患者前额叶皮质的代谢指标及T2信号强度的变化规律.并分析相关阳性指标与PANSS评分之间的相关性.结果 精神分裂症患者双侧额叶NAA/Cr比值较对照组明显降低,差异有统计学意义(P<0.05);两组间双侧额叶Cho/Cr比值差异无统计学意义(P>0.05).精神分裂症患者双侧额叶上部磁共振T2信号强度较对照组明显增高,差异有统计学意义(t=2.07、2.18,P<0.05);精神分裂症患者左、右侧额叶中部及额叶下部磁共振T2信号强度与对照组相比差异均无统计学意义(P>0.05).精神分裂症患者左侧额叶上部磁共振T2信号与PANSS阴性症状分数、PANSS总分呈正相关(r=0.57、0.49,P<0.05).结论1H-MRS及T2信号强度联合分析,可为精神分裂症临床早期诊断提供新的思路,借此思路或可解释首发精神分裂症患者前额叶皮质的神经元代谢异常及病理改变两者之间的潜在联系.

关键词：精神分裂症、前额叶皮质、磁共振T2信号、质子波谱

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在线出版日期：2018-07-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：240-243