10.13880/j.cnki.65-1174/n.2017.05.001
卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的现状及发展趋势
首先,重点介绍了目前卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的研究进展,概述了国内外相关研究主要的方法、结果与发现;其次,分析了卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究的现状,归纳出目前国内外各种方法的优劣性及适用性;最后,对我国卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究进行了展望,提出我国该工艺研究的发展趋势与方向,今后我国应加强吸附法的研究,分子设计并合成具有特定功能的原子或基团的树脂吸附剂,用于卤硅烷体系除B、P杂质,最终形成流程简单、能耗较低、除杂效果稳定的树脂吸附工艺.
卤硅烷、B、P杂质、提纯、树脂吸附
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TQ223.12(基本有机化学工业)
教育部“创新团队发展计划”IRT_15R46;国家自然科学基金21706167;天津市应用基础与前沿技术研究计划15JCQNJC05800;石河子大学高层次人才科研启动RCZX201507项目
2018-06-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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529-536