卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的现状及发展趋势
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.13880/j.cnki.65-1174/n.2017.05.001

卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的现状及发展趋势

引用
首先,重点介绍了目前卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的研究进展,概述了国内外相关研究主要的方法、结果与发现;其次,分析了卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究的现状,归纳出目前国内外各种方法的优劣性及适用性;最后,对我国卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究进行了展望,提出我国该工艺研究的发展趋势与方向,今后我国应加强吸附法的研究,分子设计并合成具有特定功能的原子或基团的树脂吸附剂,用于卤硅烷体系除B、P杂质,最终形成流程简单、能耗较低、除杂效果稳定的树脂吸附工艺.

卤硅烷、B、P杂质、提纯、树脂吸附

35

TQ223.12(基本有机化学工业)

教育部“创新团队发展计划”IRT_15R46;国家自然科学基金21706167;天津市应用基础与前沿技术研究计划15JCQNJC05800;石河子大学高层次人才科研启动RCZX201507项目

2018-06-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共8页

529-536

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

石河子大学学报(自然科学版)

1007-7383

65-1174/N

35

2017,35(5)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn