C-SiO2复合薄膜对口腔钴铬合金耐腐蚀性能的影响

摘要：

目的:在模拟口腔环境中,研究碳-二氧化硅(C-SiO2)复合薄膜对钴铬合金耐腐蚀性能的影响,为临床应用提供依据.方法:使用真空旋转涂布法在单晶硅片基底表面均匀旋涂C-SiO2复合薄膜,用于了解C-SiO2复合薄膜的参数.选用钴铬合金,制成20 mm×20mm×0.5 mm试件,运用真空旋转涂层布法在钴铬合金表面均匀旋涂一层C-SiO2复合薄膜.通过电感耦合等离子体发射光谱仪测量并比较涂层前、后试件浸泡液中Co、Cr、Mo的离子浓度;采用电化学工作站进行塔菲尔极化曲线测试电化学耐腐蚀性能.采用SAS8.0软件包对数据进行统计学分析.结果:电感耦合等离子体发射光谱仪测量结果显示,涂层后,试件浸泡液中Co、Cr、Mo的离子浓度显著小于钴铬合金.塔菲尔极化曲线可见钴铬合金涂层后自腐蚀电位向正方向移动,从-0.261 V上升至-0.13 V;自腐蚀电流密度呈下降趋势,从-5.0017 μA/cm2下降至-5.3006 μA/cm2.结论:C-SiO2复合薄膜(SiO2=61.71 wt％)能显著减少金属离子的释放,有效提高钴铬合金的耐腐蚀性能,具有良好的临床应用前景.

关键词：碳-二氧化硅复合薄膜、钴铬合金、极化曲线、耐腐蚀性能

所属期刊栏目：25

分类号：R783.1(口腔科学)

在线出版日期：2016-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：542-547