含银抗菌羟基磷灰石涂层银离子的缓释性能

摘要：

目的:研究以钛为基底含银羟基磷灰石涂层材料中银离子的缓释性能.方法:采用等离子喷涂技术制备钛基羟磷灰石涂层试件.实验组为含5%磷酸锆载银抗菌剂的羟基磷灰石涂层,对照组为纯羟基磷灰石涂层.将试件浸入小牛血清,37℃厌氧恒温避光保存.以小牛血清作空白对照.1、7、14d观察期末进行原子能吸收光谱检测,并计算银离子浓度.结果:实验组于观察1、7、14d末银离子含量分别为250、425和417ng,银离子释放速度随时间推移而变缓.第7～14天,银离子释放量基本稳定,第14天银离子含量略有下降.对照组银离子含量可忽略不计.结论:含银钛基羟基磷灰石涂层材料中银离子释放量少,第7天银离子释放达到稳定,第14天可能有银离子再吸附现象.

关键词：羟基磷灰石涂层、银离子缓释性、石墨炉原子吸收光谱法

所属期刊栏目：18

分类号：R783.1(口腔科学)

资助基金：上海市重点特色学科建设项目T0202

在线出版日期：2009-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：66-68